英特尔与日本产业技术总合研究所（AIST）计划在日本设立半导体制造研发中心，专注EUV曝光技术。

该中心由AIST主导，英特尔提供EUV技术知识，总投资预计达数亿美元，预计3至5年内落成。这将引入日本首台EUV曝光机，助力5纳米以下芯片生产。

当前，日本研究机构在EUV技术研发上依赖海外资源，流程繁琐且受美国技术管制影响。新研发中心成立后，将直接为日本厂商提供EUV设备，加速其研发进程。

英特尔近期对半导体设备与材料研发表现出浓厚兴趣，已联合多家日企成立SATAS协会，聚焦后段制程自动化技术。

此番与日方合作，标志着英特尔在日本半导体研发领域的又一重要布局，紧随台积电与三星电子之后，共同推动日本3D半导体技术的发展。