武汉光谷实验室突破技术壁垒,成功研制出顶尖量子点光刻胶
来源:ictimes 发布时间:2024-08-20 分享至微信

中国光谷官方微信平台近日宣布了一项重大科研成果——湖北光谷实验室携手华中科技大学集成电路学院的光电子器件与三维集成研究团队,以及广纳珈源(广州)科技有限公司,共同研发出了一种高性能量子点光刻胶(QD-PR)。这款创新产品以其卓越的蓝光转换效率(绿色达44.6%,红色达45.0%)和高达1微米的光刻精度,在行业内树立了新的性能标杆。


该研究成果的核心在于量子点技术的应用,特别是胶体量子点,这一在2023年荣获诺贝尔奖的材料,因其独特的发光特性(如半峰宽窄、颜色可调、高效率及小粒径)而备受瞩目,被认为是与蓝光micro-LED技术完美匹配的荧光材料。为实现量子点与蓝光micro-LED阵列的高效协同工作,量子点色转换层必须进行像素化处理,其中光刻技术以其高精度优势脱颖而出,成为适用于高像素密度(PPI)增强现实(AR)、虚拟现实(VR)应用的优选方案。


通过采用自主研发的高性能量子点光刻胶,研究团队成功实现了量子点像素的精密布局,不仅提升了像素的精细度,还确保了量子点色转换像素的卓越稳定性。实验结果显示,这些量子点像素在75℃空气中加热长达120小时后,仍能保持其原始发光性能的绝大部分,红色像素保留92.5%,绿色像素更是高达93.4%,充分展示了其在实际应用中的可靠性和耐用性。


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