日本EUV曝光技术革新:能效与成本双降
来源:ictimes 发布时间:2024-08-13 分享至微信
冲绳科学技术大学院大学(OIST)研发出EUV曝光新技术,通过简化结构设计,使耗能与成本大幅下降。该技术有望打破荷兰ASML的独家供应局面,促进日本国产曝光机的发展。
该技术采用更少的反射镜(仅4片),相比ASML的10片设计,显著减少了光能量损失,同时提高了投影对比度。EUV光源仅需20W电力,系统总功耗降低至传统技术的十分之一以下,展现了极高的能效优势。
此外,研究团队还创新性地提出“二重曝光场”方法,有效降低了光罩的3D效果,进一步提升了曝光质量。这项技术已通过光学模拟软件验证,具备实际生产应用的潜力。
该新技术的商业化前景广阔,预计可大幅降低EUV曝光机的引进成本,接近减半。随着全球EUV微影市场的快速增长,该技术专利有望带来显著的经济效益。目前,研究团队正积极推进实验与产业合作,计划于2026年推出新型EUV曝光机,并已吸引海外厂商的关注与洽询。
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