JX金属40亿日元扩产，韩国溅射靶材产能将翻倍

据日经新闻报道，日本JX金属公司（JX Advanced Metals）计划对其位于韩国的半导体溅射靶材加工工厂进行设备升级。据悉，该项目总投资额将达到40亿日元（约人民币1.66亿元），约2600万美元（约人民币1.76亿元），旨在将当地的加工产能扩大至现有水平的两倍左右。

报道指出，JX金属预计在2027财年（2027年4月至2028年3月）实现溅射靶材加工产能的提升。为此，公司将在位于首尔近郊平泽市的现有工厂内引入自动化加工生产线等设备，该地区是韩国重要的半导体产业集群。

在业务模式方面，JX金属目前将日本本土生产的溅射靶材运往韩国进行后续加工，同时其位于日本茨城县的工厂也在同步推进产能扩充计划。

此次扩产动作主要为了应对韩国市场不断增长的需求。此前，韩国三星电子与SK海力士已宣布将投入800万亿韩元（约人民币3.66万亿元），约5700亿美元（约人民币3.87万亿元）用于相关投资。

注：按1日元≈0.04人民币、1美元≈6.78人民币、1韩元≈0.0046人民币计算。