NVIDIA与日厂合作加速半导体制造

据日经新闻（Nikkei）报道，NVIDIA正通过提供GPU及运算所需的软件平台，与日本厂商展开深入合作，加速半导体制造相关流程。

NVIDIA工业与运算工程总经理Tim Costa指出，半导体领域的曝光制程（Lithography）是GPU加速技术应用最快的领域。随着电路设计愈加精细，误差修正等流程对计算能力的需求大幅增加。NVIDIA通过提供支持高负荷运算的函式库（Library），成功将曝光制程的运算速度提升了最高达70倍。此外，Costa透露，台积电在设计模拟运算中也实现了100倍的速度提升。

如今，GPU加速技术已从曝光制程扩展到缺陷检测、检验流程以及材料设计模拟等多个环节。Costa强调，这种趋势不仅限于半导体行业，未来还将渗透至整个制造业。NVIDIA计划向各行业提供物理模型（Physical Models）、生成式AI（Generative AI）及实体AI（Physical AI）等基础平台。

目前，NVIDIA已与多家日本企业展开合作，包括芯片设备厂商爱德万测试（Advantest）以及目标在2027年量产2纳米芯片的Rapidus。此外，欧姆龙（Omron）利用NVIDIA的虚拟空间平台Omniverse，将半导体检测中X光剂量的调整过程进行3D可视化，显著提升了检测效率。这项技术不仅优化了芯片与封装载板间焊锡连接的检测，还能通过3D图形呈现焊锡形状，帮助精准识别不良品并改进生产流程。