NVIDIA推运算式微影软件 加速2纳米以下芯片设计
来源:陈玉娟发布时间:2023-03-22477浏览
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NVIDIA于GTC大会上宣布，在半导体领域的最新突破，将加速运算用在运算式微影技术领域。NVIDIA表示，当前芯片制程已接近物理学极限， 台积电、ASML与新思科技（Synopsys）等大厂，透过采用此技术能够加速设计及制造下一代芯片。
台积电及Synopsys将NVIDIA的全新运算式微影「cuLitho」软件库整合到其软件、制程及系统中；ASML亦与NVIDIA密切合作，计划将对GPU的支持与都整合到所有运算式微影软件产品中。
此项四方合作，将使得芯片上可以用比现在更精细的晶体管和线路，同时加快上市时间，且提高为推动制程而全日运作的大规模数据中心的能源使用效率。
NVIDIACEO黄仁勋表示，在微影技术现已达到物理学极限的情况下，NVIDIA推出cuLitho协助晶圆厂提高产量、减少碳足迹，为2纳米以下先进制程发展奠定基础。
cuLitho让500个NVIDIA DGX H100系统，可以做到相当于4万个CPU系统的工作量，平行运行运算式微影流程的所有部分，有助于减少电力需求量和降低可能影响环境的程度。
短期来看，使用cuLitho的晶圆厂可以每天将用电量减少9倍，且将光罩（芯片设计范本）生产量增加3~5倍。原本需要2周时间才能生产出1个光罩，如今在一夜之间即可完成。
长远来看，cuLitho有助于创造出更好的设计规则、更高密度、更高产量及AI驱动的微影技术。
台积电总裁魏哲家表示，cuLitho团队将旷日费时的作业交给GPU执行，在加快运算式微影技术取得重大进展。此项发展为芯片制造中部署反向微影技术和深度学习等微影技术解决方案，开创了新的可能性 。
ASMLCEOPeter Wennink表示，已计划将对GPU的支持都整合到所有的运算式微影软件产品，进而可扩大半导体产业的规模，在高数值孔径极紫外光微影时代尤为如此。
NVIDIA指出，由于新节点晶体管数量更多，加上对精度的要求更为严格，半导体制造业中最大的工作负荷所需的运算时间成本早就超过了摩尔定律。
未来的节点需要更精密的运算，又并非所有运算作业都能配合当前平台提供的可用运算带宽，这么一来便减缓了半导体业的创新脚步。
cuLitho不仅有助于打通这些关卡，还能协助开发出新的解决方案和创新技术，如曲线光罩、高数值孔径极紫外光微影技术及新技术节点所需的次原子光阻建模。
责任编辑：朱原弘
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