浙江奥首新产品“14nm节点以上芯片光刻胶剥离液”已实现量产
来源:semi发布时间:2023-03-162574浏览
询问 AI据衢州经信官微消息，浙江奥首材料科技有限公司开发的新产品“14nm节点以上芯片光刻胶剥离液”已实现量产。
据报道，近日，奥首开发的“14nm节点以上芯片光刻胶剥离液”通过了专家验收评审，专家们一致认为产品的技术水平已达到国际先进水平。新产品具有去胶能力强、清洗良率高、金属离子含量低、不含苯酚或氯化溶剂、金属蚀刻速率低等特点。主要应用于半导体芯片光刻图形化工艺后残留光刻胶的清洗领域，尤其是大规模集成电路14nm技术节点以上芯片光刻后的清洗。
据悉，奥首成立于2014年，是1家专业从事集成电路和先进显示功能化学品研发生产的国家高新技术企业，建有3000多平百级/千级洁净实验室、洁净中试车间及数十条自动化洁净生产线。
奥首表示，未来将围绕集成电路、先进显示、航空航天等战略新兴产业的“卡脖子”材料，积极开展技术攻关，筑牢我国集成电路产业供应链安全纽带，带动本地形成功能电子化学品产业集聚，助力衢州市建设“万亩千亿”电子材料基地。
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