台积电冲刺“1nm”背后，隐藏着哪些技术秘密?

正式开始前，我先给大家介绍一个非常实用的工具——智慧芽Eureka研发情报库。它是通过PatentDNA从海量专利文献中提取关键的技术信息，快速帮助研发人找到技术解决方案。（限时开放中，想要领取可以扫描文末二维码）

摩尔定律是半导体领域的行业发展规律，但近几年各大头部企业加速研发，大有突破摩尔定律之势。

有报道称，目前正在推进3nm制程工艺量产的台积电，同时也在推进更先进的2nm及1nm制程工艺。其中，2nm制程工艺预计在2025年下半年量产，而1nm制程工艺已在谋划工厂的建设事宜。

台积电能否突破摩尔定律，提前实现2nm甚至1nm制程工艺的量产，值得期待！

在此之前，小编通过智慧芽Eureka研发情报库找到了台积电在美国最新申请的5件专利，其中或许就有减小线宽实现降低制程的“秘密”！

操作小技巧：

首先登录智慧芽Eureka研发情报库官网：https://eureka.zhihuiya.com/channel_source=gongzhonghao

搜索“半导体”关键词,其次我们利用专利所有者和技术功效词条件，筛选出台积电公司和半导体技术词。

👉1.半导体器件和方法

这件专利涉及材料领域的技术创新，提到了能够实现沉积在心轴层上的间隔层的不同厚度的应用案例。

（来源：智慧芽Eureka研发情报库）

这件专利涉及SRAM领域，其中提到的电路，上面的每个寄存器包括SRAM单元、被配置为接收读地址的读端口、被配置为接收写地址的写端口、选择电路、锁存电路和串联耦合在寄存器之间的解码器。

智慧芽Eureka研发情报库不仅有技术信息查找功能，还可以监控行业头部企业的技术动态、某项技术的发展路径以及30秒生成技术交底书等，这里就不一一介绍了。

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最后真的是非常推荐大家免费注册我们的Eureka研发情报库，对于研发工程师以及其他需要经常找技术的岗位，它真的大大降低了技术的检索门槛，帮助研发人快速找方向、找技术、找灵感，用了之后你才会发现——原来找技术还可以这么简单！

关于智慧芽

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