美国又搞事情！反对将EUV光刻机卖给无锡SK海力士

继近日美国拜登政府反对英特尔对其位于中国四川成都的硅晶圆厂进行扩产一事后，韩国存储器芯片大厂SK海力士恐怕也将面临来自美国的压力与限制。

11月18日，路透社报道，SK海力士希望引入ASML（阿斯麦）最先进的EUV设备，升级其无锡芯片厂的设备产品，以提高量产能力，控制成本并加速生产效率。

尽管是由主体为韩国企业的SK海力士来引入光刻机设备，但由于会将先进技术引入中国大陆，因此美国极力反对，理由是向中国运送此类先进工具可能被用来加强中国的军事力量。

众所周知，SK海力士是全球最大的DRAM存储芯片供应商之一。从智能手机到数据中心，几乎所有领域的电子设备都可以看到DRAM存储芯片。显然，美国宁愿芯片危机晚些化解，也不希望看到芯片制造商加大在中国的投资。

一名白宫高级官员拒绝就美国官员是否会允许SK Hynix将EUV工具带到中国的问题发表具体评论。但这位官员表示，拜登政府仍专注于阻止中国利用美国及其盟国的技术来发展最先进的半导体制造，以帮助中国实现军事现代化。

公开资料显示，SK海力士无锡工厂DRAM产能占SK海力士全部产能的50％，在全球总量中占据15％，可以说是全球电子产业链中占据重要地位，任何重大变化都可能对全球储存芯片市场产生影响。

业内人士分析认为，未来2 ～ 3年内，新型芯片在SK海力士的生产中所占的份额将会增加，因此需要EUV机器来控制成本和加快生产。但如今SK海力士无锡工厂升级遇阻，极有可能导致公司未来在与三星、美光竞争时处于劣势地位。据悉，目前三星和美光也正在采用EUV设备，但并没有未面临像SK出口限制。

就跟之前英特尔在华扩产遇阻一样，英特尔计划在中国四川成都的硅晶圆厂进行扩产，以此缓解当前全球芯片供不应求的境况。据悉，英特尔成都厂在2003年建设，在此之后，英特尔成都厂先后经过了三次增资，截至到2014年11月，总投资额达6亿美元。

其中，“成都芯片组业务”使用英特尔最先进的封装技术来组装芯片组，“成都微处理器业务”则负责生产微处理器。目前成都工厂已经是英特尔在全球最大的封装生产基地，同时也是英特尔全球最大的芯片封装测试中心之一，并已建设成为英特尔全球晶圆预处理三大工厂之一。

原计划在2022年底上线的英特尔成都工厂生产计划，由于英特尔目前正在美国申请政府提供资金和技术援助的原因，在与拜登政府协商后，目前英特尔这一计划已经被美国拜登政府以危及“国家安全”的理由拒绝。但反观另一方面，英特尔又被美国要求希望其加大在美国本土的晶圆厂建设，为此英特尔一直在美国申请520亿美元的芯片研发和制造资金。

光刻机的话题一直不缺乏热度

就在最近上海进博会上，ASML全球副总裁、中国区总裁沈波在最近的采访中表示，对中国出口集成电路光刻机持开放态度，在法律框架下全力支持。同时明确表明，目前ASML除了EUV光刻机无法对中国客户供货外，其他产品都可以正常供货。也就是说，EUV以下的技术，包括DUV光刻机在内都不受其他限制。

从ASML的这次表态来看，EUV光刻机依然迟迟难见希望。众所周知，中芯国际在三年前曾花费1．5亿美元向ASML订购了一台EUV光刻机，原本应该于2019年初就交货，但由于美方阻挠，ASML拿不到许可证，至少未交付。

EUV拿不到手，拿DUV总可以吧？在今年3月初，中芯国际宣布和ASML签订了延长采购协议至今年年底，协议总价为12亿美元。按照产品金额来算，至少可以购买几十台DUV光刻机。

对于中芯国际而言，公司今年分别在北京、上海、深圳增资加码扩大产能，DUV光刻机无疑成为了最为重要的设备之一。但新的问题出现了，据台媒报道，目前中芯国际跟ASML续签的这个订单的DUV光刻机还没有到货。并且随着采购协议的最后期限临近，恐怕这笔订单将要跳票，从而危及中芯国际未来的产能计划。

根据沈波的说法，DUV光刻机应该是不受限制的，而迟迟无法供货的原因是，由于全球缺芯导致的光刻机需求增大，虽然ASML已经在尽力扩大产能，但依然不能满足用户需求。并且由于涉及的几千家配套供应商只能提供85％的零部件，因此有的产品交付期甚至要翻倍。

这意味着光刻机的订单太多，ASML虽能扩大产能，但供应商的配套部件跟不上，导致光刻机交货期也得延长。另一方面，此前中芯国际宣布与ASML达成批量设备采购延长协议之后，美国共和党众议员麦考尔和鲁比奥还曾联合致信美国商务部长雷蒙多称，基于中芯国际协助中国大陆追求“取代美国在全球的领先地位”方面发挥的作用，为保护美国的国家安全利益，要求拜登政府劝说荷兰政府阻止ASML出售DUV光刻机卖给中芯国际，并且还须与盟国达成协议，统一出口限制和许可权，限制类似DUV和EUV光刻等技术设备的出售。显然，订单积压也许是中芯国际订购的DUV未能如期交货的原因之一，但背后又是否还存在其他的阻碍因素也不好说

任重而道远：传国内光刻机验收未过

近日有传闻称：“上海微电子的28nm光刻（传闻型号为SSA800／10W）机没有通过02专项的国家验收，无法在2021年底完成，28nm光刻机卡住了‘02专项’。”此消息在业内不断发酵引发热议，并未得到官方回应。

显然，在目前被国外巨头掌握了先进光刻机技术的前提下，仅靠我们自己就像研发出可靠的光刻机设备，还存在一定的困难。

要知道，ASML先进的EUV光刻机拥有超过10万个零件，涉及到上游5000多家供应商。从2015年到2020年底，ASML一共也就交付了100台EUV光刻机，这些零部件极为复杂，对误差和稳定性的要求极高，并且这些零件几乎均属于定制，90％零件采用的是世界上最先进技术，85％的零部件是和供应链共同研发。且更难的是调试、维护，设备中的一些接口需要工程师用高精度机械进行打磨，尺寸调整次数更可能高达百万次以上，成本方面更不用说了，每台都是以亿美元为单位来计算的，因此光刻机研发制造的难度可想而知。