8月10日，大族激光在互动易平台表示，公司在研光刻机项目目前已接到少量订单。

此前，有投资者5月底向大族激光提问：“公司的紫外激光能用到光刻机上吗？”大族激光方面回复：“公司在研光刻机项目主要聚焦在分立器件、LED等领域的应用，尚未实现销售。”这样的消息于6月14日被媒体扩散之后，带动大族激光股价在6月15日大涨7.24%。

两天之后的6月17日，大族激光方面在互动平台回答投资者提问时又透露，在研光刻机项目解像度为3～5μm（微米），主要聚焦在分立器件、LED等领域的应用，今年有望实现小批量销售。

自去年美国开始对华为等中国高科技企业实施制裁以来，大家都清楚意识到高端光刻机是我国半导体产业“卡脖子”的重要一环，因此所有有关高端光刻机的消息都会成为舆论和资本市场关注的热点。

制造7纳米以下工艺高端芯片，需要极紫外（EUV）光刻机，但该项技术一直被荷兰阿斯麦公司（ASML Holding N.V.）垄断，能生产5纳米及以上光刻机的就只有他们。一台精密光刻机售价动辄上百亿，还因为美国施压以及瓦森纳协议，不卖给中国大陆厂商。我国半导体行业起步较晚，尤其是半导体设备方面，光刻机技术与ASML的差距非常大。

大族激光的自研光刻机，并非用于集成电路制造的光刻机。

光刻机由于光源波长不同，其解像度也不同，用于集成电路制造的最先进光刻机已经到5纳米，国产集成电路光刻机方面，除了合肥芯硕半导体公司也具备量产200nm光刻机的实力，无锡影幻半导体公司也具备200nm光刻机量产的实力，而上海微电子所（SMEE）生产的90nm光刻机已是目前国内最高技术的光刻机。

今年6月，上海微电子装备发布声明称，公司在之前90nm的基础上，将在2021年至2022年交付国产第一台28nm的immersion式光刻机。而上述分立器件、LED等需要产品制造，光刻机线宽不需要纳米级，只需要微米级。所以大族激光3～5微米级的光刻机不可能用在集成电路制造中，精度不高，研发难度也并不大。

6月19日，中国经营报发表《大族激光误入光刻机概念》文章称，尽管大族激光涉足光刻机产业，但实际上自研的应该是较为低端的光刻机设备。“LED领域的光刻机线宽要求相比很粗，同时它只是做单层光刻就可以了，不像我们平常所说的集成电路（IC）光刻机那样要通过多层光刻，因为集成电路光刻就像盖楼一样，盖一层光刻一层。”

公开资料显示,大族激光是亚洲最大、世界排名前三的工业激光加工设备生产厂商,主要产品包括激光打标机系列、激光焊接机系列、激光切割机系列、新能源激光焊接设备、激光演示系列、PCB钻孔机系列、工业机器人等多个系列200余种工业激光设备及智能装备解决方案。

虽然他们研制的并非高分辨率的光刻机，但至少是光刻机国产替代进口，国产化的进程。

《电子工程专辑》此前也报道，去年就有网友发现大族激光在招聘光刻机方面的人才，甚至挖国内光刻机龙头——上海微电子的人。随着在研光刻机项目的有序推进，大族激光也能为我国光刻机的自主研发事业做出一点点贡献。