9月6日，荷兰政府发布了关于两款浸没式DUV（深紫外光）光刻机出口的最新许可要求，该规定将于9月7日正式生效。

根据更新后的许可要求，并根据美国出口管理条例734.4.(a).(3)，ASML后续需要向荷兰政府而非美国政府申请出口许可，才能出货其TWINSCAN NXT:1970i和1980i DUV浸没式光刻系统。

在荷兰政府的最新声明中，并没有指明任何特定国家作为半导体设备出口限制的主要关注对象。

此前，ASML最先进的浸润式DUV光刻机（即TWINSCAN NXT:2000i及后续推出的浸润式DUV光刻机）已被限制，需要荷兰许可证才能发运。此外，ASML的EUV光刻机的销售也需要许可证。

对此，ASML官方发布声明表示，认为这一新规主要是协调颁发出口许可证的方式，即由美国政府发放许可变更为由荷兰政府发放许可。

ASML表示，预计监管变化不会对2024年的财务前景产生任何影响，也不会对2022年11月投资者日期间所传达的长期前景产生任何影响。

荷兰贸易部长雷内特-克莱弗表示：“我做出这个决定是为了我们的安全。”

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