三星电子为提高晶圆代工先进制程产能，正致力于提升3纳米制程良率。据报道，三星计划引进日本三井化学的极紫外光（EUV）光罩护膜，并加速新一代纳米碳管（CNT）光罩护膜的商用化。
三星将从三井化学采购数十亿韩元规模的EUV光罩护膜，用于京畿道华城的3纳米代工产线。光罩护膜在半导体曝光制程中起关键作用，覆盖于光罩上防止异物沾染，对7纳米以下先进制程尤为重要。
三星因3纳米制程良率不佳而面临大客户流失问题，2024年第4季晶圆代工事业部亏损约2万亿韩元。三井化学与荷兰曝光设备大厂ASML合作研发相关技术，最终获得三星青睐。
此外，三星长期以来也自主投入EUV光罩护膜研发，并与Fine Semitech合作研发CNT光罩护膜，透射率高达94%以上，对High-NA EUV时代至关重要。若能加速商用化，将成为三星追赶台积电的关键之一。
