据报道，三井化学（Mitsui Chemicals）决定退出半导体材料三氟化氮（NF3）业务。其全资子公司下关三井化学（Shimonoseki Mitsui Chemicals）位于日本山口县下关市的工厂，计划于2026年3月底停止生产该材料，并在2026年内完全结束销售。

三氟化氮是一种重要的气体材料，广泛应用于半导体及LCD显示器制造设备的清洁环节。然而，由于海外市场竞争加剧、原材料和公用事业成本上升，以及维修费用增加，三井化学的NF3业务盈利能力受到严重挤压。尽管公司已采取多种措施进行业务优化和成本削减，但最终仍无法确保维持该业务的必要盈利水平，因此选择退出。

据日经新闻（Nikkei）报道，三井化学的NF3产品主要供应日本本土半导体厂商。随着该公司退出市场，日本境内仅剩关东电化工业（Kanto Denka Kogyo）一家企业继续生产该材料。

尽管如此，三井化学并未放弃半导体材料领域，而是将重点转向更具附加值和成长潜力的业务。例如，公司正加大在极紫外光（EUV）先进制程中使用的光罩护膜（Pericle）方面的投资。根据官方财报，三井化学的半导体材料业务属于ICT解决方案事业部，是其三大成长领域之一。2024财年（2024/4~2025/3），该部门实现营收2,188亿日元（约合15.2亿美元），占集团总营收的12%，核心营业利润达258亿日元，占比25.5%。公司强调，此次业务调整对整体财务表现影响轻微，财测维持不变。