美光推出新款16Gb DDR5-9200存储器，采用极紫外光（EUV）微影技术的1γ制程。该制程技术提高了存储器的位元密度、效能和能源效率。

与1β制程的DDR5存储器相比，新款16Gb DDR5-9200功耗降低20%，位元密度增加30%。若良率相当，制造成本将大幅下降。

美光已开始向PC和服务器制造商提供样品，预计1-2季内完成认证，预计2025年中上市。

1γ制程是美光首次采用EUV技术，未来将成为主力制程，用于制造GDDR7、LPDDR5X等存储器。美光首台EUV设备已导入日本晶圆厂，未来日本和中国台湾的晶圆厂将引入更多EUV设备，扩大1γ制程产量。