美光其1γ（1-gamma）DRAM制程节点正式采用EUV设备，重点聚焦于效能、功耗和位元制造效率。

美光副总裁Praveen Vaidyanathan指出，1γ制程将首先应用于云端服务器及AI数据中心，后续再扩展至AI PC等边缘设备。

1γ制程是美光第六代DRAM技术，首个采用EUV微影技术，DDR5样品已开始出货给合作伙伴验证。预计该制程可使数据中心效能提升15%，功耗节省超过20%，位元产出量提升30%以上。

随着数据经济持续增长，美光强调需持续改善效能、降低功耗并提升位元制造效率，以支持业界需求。

1γ DRAM节点结合了CMOS技术、EUV微影技术、高纵横比蚀刻与设计创新，将在日本及台湾台中生产。

首批1γ DRAM将应用于16Gb DDR5，完成验证后将进入量产，首先应用于云端服务器，并逐步推向工业、商业消费端及边缘AI设备，包括AI PC、手机及汽车等领域。