因涉嫌泄露18纳米制程技术,三星前部长被判处有期徒刑7年
来源:龙灵 发布时间:2025-02-21
分享至微信

三星电子一位离职部长因涉嫌向长鑫存储泄露半导体核心技术,近日在韩国法院一审被判处有期徒刑7年,并处罚金2亿韩元(约13.7万美元)。
据称,该部长泄露了三星18纳米DRAM制程信息,对三星及韩国产业竞争力造成重大负面影响。
该部长于2016年离职后,加入长鑫存储并泄露了包括半导体沉积等在内的8项核心技术。此外,他还涉嫌收受贵重物品,与三星协力厂职员共谋,将半导体设备设计数据交给中国企业。
韩国国家情报院掌握技术泄露情况后,请求检方调查。首尔中央地方检察厅于2024年1月对嫌疑人提起公诉。
[ 新闻来源:龙灵,更多精彩资讯请下载icspec App。如对本稿件有异议,请联系微信客服specltkj]
存入云盘 收藏
举报
全部评论
暂无评论哦,快来评论一下吧!

龙灵
开创IC领域,共创美好未来!
查看更多
相关文章
三星晶圆代工遭遇挑战,1.4纳米制程开发或中断
19 分钟前
Rapidus锁定2纳米制程节点,欲挑战台积电2纳米制程
2025-02-08
三星计划引进三井化学EUV光罩护膜,提升3纳米制程良率
2025-02-27
华为自研PC芯片麒麟X90,或采用7纳米制程
19 分钟前
三星西安工厂升级堆叠NAND Flash制程技术
2025-02-14
热门搜索
现代汽车韩国新建氢燃料电池系统工厂
陈立武出任英特尔CEO
华为
台积电
中芯国际
联发科
高通
英特尔
芯片