随着中国半导体产业的崛起，光阻剂作为关键材料，其本土化进程也在加快。近年来，中国光阻剂厂家在政策、技术和市场驱动下取得显著进展。

政府将半导体设备材料列为重点发展领域，提供政策和资金支持。本土厂商如北京科华微电子、厦门恒坤新材等，在G线和I线光阻剂上取得突破，并逐步扩大市占率，向高端市场进军。

科华微电子致力于光阻剂的研发和产业化，已在中低端市场占有一席之地，并推动产品向28纳米及以下制程发展。厦门恒坤新材成功申请科创板上市，将用于提升光阻剂技术和开发先进产品。

苏州矽睿光刻材料专注于高效能微影材料，突破KrF和ArF光阻剂研发，为28纳米及以上制程提供方案。隆华科技则以PCB光阻剂为主，逐步向高端领域进军。

然而，中国光阻剂产业仍面临挑战。目前，本土光阻剂产业相对薄弱，I线市占率仅为10%左右，DUV领域处于起步初期，EUV光阻剂几乎空白。此外，部分关键原材料仍依赖进口。

尽管如此，随着本土半导体产业的快速发展和政策支持，中国光阻剂产业前景仍具备潜力。未来，本土厂商需继续加大技术攻关投入，提升产品和技术水平，加速向高端市场拓展。