EUV曝光机作为半导体产业的关键设备，其功耗惊人。据悉，一台EUV曝光机的功耗高达1,400KW，相当于一座小型城市的电力需求。随着全球晶圆厂数量的增加，EUV设备的耗电量也在不断攀升。

据分析师预测，到2030年，全球所有配备EUV工具的晶圆厂每年耗电量将超过54,000GW，这一数字已经超过新加坡、希腊、罗马尼亚等国一年的电力需求。同时，随着下一代高数值孔径（High-NA）微影设备的推出，功耗还将进一步增加。

虽然EUV设备所耗电量仅占晶圆厂总耗电量的11%，但加上暖通空调、设施系统、冷却设备等辅助设备的耗电，晶圆厂的总耗电量将大幅增加。

这将对全球发电基础设施带来巨大压力，尤其是对那些已经难以找到足够电网负荷新建数据中心的地区而言。

此外，晶圆厂的高耗电量也引发了对环境影响的担忧。随着全球对环保意识的提高，如何减少晶圆厂的碳排放，实现可持续发展，已成为业界亟待解决的问题。因此，晶圆厂需要不断探索新的节能技术和方法，以降低耗电量，减轻对电网和环境的负担。