ASML展望未来:EUV光刻EUV光刻支出复合年增长率将达两位数
来源:ictimes 发布时间:2024-11-16 分享至微信
在2024年投资者日上,ASML Holding NV(ASML)向全球投资者揭示了半导体行业的未来趋势以及ASML的长期战略。
ASML总裁兼首席执行官Christophe Fouquet在会上表示:“我们预计将 EUV 技术扩展到未来十年,并扩展多功能的整体光刻产品组合,这将使 ASML 能够为人工智能 (AI) 做出贡献并利用人工智能 (AI) 机会,并使 ASML 实现可观的收入和盈利增长。”
ASML认为,在人工智能等新兴领域的推动下,半导体行业正迎来前所未有的发展机遇。ASML预计,这些新兴技术将推动全球半导体销售额在2030年突破1万亿美元大关,从而实现2025-2030年期间约9%的年增长率。
在ASML的战略布局中,EUV光刻技术无疑占据了核心地位。ASML认为,在未来几十年里,EUV技术的可扩展性将持续展现其成本效益,助力客户将多图案层进一步转移到单图案EUV 0.33 NA和EUV 0.55 NA,适用于高级逻辑和DRAM等领域。因此,ASML大胆预测,在2025年至2030年间,高级逻辑和DRAM的EUV光刻支出将实现两位数的复合年增长率。
ASML执行副总裁兼首席财务官Roger Dassen在会上进一步强调了ASML对未来市场需求的信心。他表示,随着半导体终端市场的预期增长和未来节点光刻支出的增加,ASML对其产品和服务的强劲需求充满信心。基于对不同市场和技术情景的评估,ASML预计到2030年,其年收入将达到440亿欧元至600亿欧元之间,毛利率将维持在56%至60%的高水平。
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