日本东京威力科创（TEL）在韩国新建成的第三座研发中心「TEL Technology Center Korea-2」已正式启用，旨在就近服务三星电子等客户。
该中心位于三星华城工厂附近，由地下2层、地上8层组成，拥有1,200坪规模的半导体设备无尘室，共聘用600名以上员工。
三星半导体事业负责人全永铉出席了开幕活动，这是他在为三星第三季度财报道歉后的首次正式亮相。
在存储器领域，SK海力士领先三星量产供应12层HBM3E，并率先研发第六代10纳米级DRAM；晶圆代工领域台积电也持续领先，三星在先进制程方面面临挑战。
为了克服当前危机，全永铉将强化与东京威力科创的合作。东京威力科创将为三星提供定制化设备，并推动符合各生产线特性的组合研发。此外，双方还将持续研发极低温蚀刻设备，用于超高容量NAND Flash和DRAM生产。
