日本国立研究机构产业技术总合研究所（AIST）宣布，将投资约1,000亿日圆（约7亿美元）与美国半导体巨头英特尔合作，在日本兴建先进芯片的研发据点。

预计该研发中心将于2027年开始营运，由AIST主导，英特尔提供极紫外光（EUV）曝光技术。

据悉，英特尔与AIST将共同设立新的营运公司来负责此事，并寻求日本的半导体制造设备和材料厂商的资金投入。

研发据点的可能兴建地点包括AIST的主要据点所在地茨城县筑波市。预计该研发设施将聘用约100名具备先进半导体开发经验的技术专家。

投资资金将来源于日本政府补助金以及支持先进半导体发展的资金，部分资金可能由企业投资来补足。由于EUV设备成本高，计划将允许各公司支付使用费来使用EUV设备，并参与AIST设定的开发项目。

此外，英特尔在日本还与其他日厂组成了「半导体后段制程工程自动化、标准化技术研究协会」（SATAS），以共同研发相关技术。此次合作将助力日本在先进芯片领域取得更多突破。