日本产业技术综合研究所（AIST）与英特尔公司宣布将共同投资1000亿日元（约7亿美元），在日本建立一个尖端半导体研究中心，预计于2027年启用，专注于先进半导体技术的开发。

英特尔将提供极紫外（EUV）光刻技术的专业支持，这是生产5纳米以下芯片的关键技术，标志着日本研究所首次安装EUV光刻设备。

该研究中心将由AIST负责运营，可能设在茨城县筑波的AIST主基地，计划聘请约100名专家。资金来源包括日本政府补贴、“后5G基金”等先进半导体开发项目，同时寻求日本半导体设备和材料供应商的资助。企业可以通过支付使用费来使用研究中心的设备，并参与项目。

此外，英特尔在日本的芯片技术发展合作不仅限于此。今年4月，英特尔已与欧姆龙和夏普成立半导体后端工艺工程自动化和标准化研究协会（SATAS），随后AIST、TDK和Aoi Electronics也加入了该协会，共同推动半导体技术的进步。

此次合作将加强日本在全球半导体领域的竞争力，促进本地半导体产业的发展，并为相关领域的研究和商业化提供强有力的支持。通过结合英特尔的先进技术和AIST的研究能力，该研究中心有望成为全球半导体研发的重要基地。