在碳化硅（SiC）这一前沿材料领域，中国正以前所未有的速度推进技术创新与产业升级。

近日，两大国内SiC设备企业——中国电科48所与三义激光，相继宣布了重大技术突破与产品交付，为中国SiC产业的发展注入了强劲动力。

9月5日，中国电科48所官方宣布，其自主研发的8英寸碳化硅外延设备在关键技术上实现了新的突破。这款全新升级的设备，不仅继承了前代产品的优良性能，更在速度、质量与稳定性上实现了质的飞跃。通过优化激光视觉定位与晶圆自纠偏技术，设备的自动化水平显著提升，生产效率与产品良率均得到大幅提升。

尤为值得一提的是，该设备在外延层厚度与掺杂浓度的均匀性上取得了显著进步，8英寸生长厚度均匀性小于1.5%，掺杂浓度均匀性小于4%，表面致命缺陷小于0.4个/cm2。

与此同时，三义激光也传来了好消息。该公司自主研发的首批6&8英寸碳化硅激光滚圆设备已顺利完成生产并交付客户使用。这一里程碑式的成就标志着三义激光在高端激光加工设备领域迈出了坚实的一步。该设备凭借高能激光束的精准加工能力，不仅提高了生产效率与产品良率，还实现了无接触式加工与全天候稳定运行，大大降低了生产成本与废弃物产生。