ictimes消息，在8月21日的最新消息中，东方晶源正式宣布其自主研发的新一代电子光学系统（EOS）取得了突破性进展。这一成果标志着国产EOS在高端量测检测领域的首次应用，成功搭载于电子束缺陷复检设备（DR-SEM）、关键尺寸量测设备（CD-SEM）以及电子束缺陷检测设备（EBI）。这一里程碑不仅提升了产品性能，还为国产电子束量测技术的发展奠定了坚实的基础。

作为芯片制造装备中技术难度最高的设备之一，电子束量测检测设备在光刻环节的应用至关重要，对制程节点的敏感性和最终产线良率有直接影响。其中，EOS作为设备的核心模块，直接决定了成像精度和设备性能。东方晶源在这一领域的突破，无疑将极大推动相关技术的发展。

公司表示，通过在高速成像和多电子束技术上的重要突破，已实现相关技术的原理验证。未来，东方晶源计划继续深耕技术领域，掌握核心技术，并以卓越的技术和产品引领电子束量测检测的发展，解决客户痛点，为中国集成电路产业的发展做出更大贡献。

东方晶源微电子科技（北京）股份有限公司自2014年成立以来，专注于集成电路良率管理，致力于纳米级电子束缺陷检测和关键尺寸量测装备的研发。这一最新成果再次证明了其在高科技领域的强大实力和创新能力。