东方晶源作为电子束量测检测技术的领跑者，近期在自主研发领域取得显著成果。公司新一代电子光学系统（EOS）成功应用于旗下多款高端量测检测设备，包括电子束缺陷复检设备（DR-SEM）、关键尺寸量测设备（CD-SEM）和电子束缺陷检测设备（EBI），实现了国产EOS技术在该领域的突破。

新一代DR-SEM EOS采用自研多通道高速探测器，支持多信号类型分析，兼容EDX成分分析，覆盖广泛的缺陷复检应用场景，并搭配高精度定位技术，达到业界主流水准。CD-SEM EOS则通过球色差优化、像差补偿技术等新方案，实现高成像分辨率和高量测精度，自研探测器优化了频响和信噪比，大幅提升量测产能。

EBI EOS针对逻辑与存储客户产线检测需求，通过超大束流预扫描技术、兼容步进式和连续式扫描模式、高速大束流检测方案和浸没式电子枪等技术手段，显著优化检测精度和速度。

东方晶源的技术深耕不仅提升了产品性能，更为国产电子束量测检测技术的发展夯实了基础。随着半导体工艺的不断进步，东方晶源将继续引领行业发展，解决客户痛点，为我国集成电路产业贡献力量。