国内芯片技术追赶西方:专利激增,未来可期但挑战重重
来源:ictimes 发布时间:2024-08-26 分享至微信
国内半导体技术相较于西方仍显滞后,但美国智库ITIF警告西方勿轻视中国潜力。当前,国内芯片设计与制造能力落后西方约5代,逻辑芯片设计差距为2年,存储器领域更为显著。设备与技术瓶颈制约发展,但赶超希望犹存。
近年来,中国在半导体领域的知识产权和创新技术专利申请激增,2020年半导体国际专利数超3400项,较2010年大幅增长。尽管多数专利非核心技术,但数量上的飞跃反映了中国在该领域的活跃与进取。
全球市占率上,美国半导体份额自1990年的37%降至2021年的12%,而中国则从零起步,迅速提升至与美国相近水平。然而,国内主攻的仍是28纳米以上传统半导体,用于非尖端领域。
中国企业以价格优势在市场中占据一席之地,或将重演消费电子等领域的成功模式,通过低价策略逐步扩大市场份额。但实现2025年前70%自给率目标仍艰难,ITIF预测即便额外投资万亿美元,自给率或仅达30%。
ITIF提醒西方,需精细制定出口管制政策,在保护技术与促进贸易间找到平衡,以应对中国半导体产业的崛起挑战。
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