国内半导体设备自给率攀升,曝光机技术成关键瓶颈
来源:ictimes 发布时间:2024-08-13 分享至微信
随着美国芯片禁令的影响,国内半导体产业正加速提升设备自给率,北方华创、中微半导体等企业积极出货。然而,曝光机技术仍是国内自给自足的最大障碍,离子植入和检测技术亦面临挑战。
2023年,国内自制曝光机系统仅占1.2%,ASML对中国市场出货量占其全球业绩近半,凸显高度依赖。上海微电子虽为国内龙头,但技术仍难以稳定生产28纳米以下制程设备。
不过,国内正积极推动曝光机技术,专家预测未来有望实现突破。荷兰学者指出,国内企业有能力研发DUV和EUV模块,甚至可能因快速吸收先进技术而在EUV研发上超越ASML。
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