SK海力士HBM项目遇水资源挑战,清州厂风险升级
来源:ictimes 发布时间:2024-07-26 分享至微信
SK海力士在推进高带宽存储器(HBM)生产时,面临水与电两大难题。韩国和中国台湾虽为半导体制造重镇,但资源有限。SK海力士清州HBM生产基地的水资源压力指数已升至“高风险”,影响其生产大计。
清州厂水资源短缺从“中等风险”升至“高风险”,对SK海力士而言是一大挑战。水是半导体制造不可或缺,尤其是晶圆清洗需用高纯超纯水。
SK海力士正通过引进外部污水处理和再利用技术应对,2023年回收水量大增18%,但仍需警惕供水中断风险。
与此同时,三星电子亦面临水资源挑战,但承诺控制取水量。两家公司均加大污水再利用力度,以应对未来需求。
电力方面,SK海力士再生能源使用率虽有提升,但采购环境仍艰难。确保水电稳定供应,成为东亚半导体业共同课题。
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