宁波冠石半导体有限公司近日迎来重要里程碑，成功引入首台电子束掩模版光刻机，标志着公司在高精度半导体光掩模版制造领域迈出坚实一步。这台设备专为光掩模版40nm技术节点量产及28nm技术节点研发设计，将显著提升冠石半导体在集成电路掩模版生产上的技术实力。

冠石半导体正全力推进海外布局战略，依托世界一流的技术团队，预计今年底将向国内外中高端市场提供制版服务，月产能可达5000片180nm至28nm的集成电路掩模版。此举不仅彰显了冠石半导体在半导体产业链上游的雄心壮志，也为其在全球市场中的竞争地位奠定了坚实基础。

作为国内专注于45-28nm半导体光掩模版规模化生产的企业，冠石半导体的此次引进将极大促进国内高阶制程光罩的自主生产能力，有效缓解高精度光掩模版长期依赖进口的现状。未来，冠石半导体有望成为国内技术领先的独立光掩模版生产商，打破国外高端产品的垄断，提升我国半导体光掩模产业的安全性和自主可控性，为行业发展注入强劲动力。