EUV技术引领半导体微缩革命,韩企加速本土化进程
来源:ictimes 发布时间:2024-07-23 分享至微信
三星电子在2纳米制程上取得重大突破,其EUV层数激增超过30%,标志着EUV技术在半导体制造中的核心地位日益凸显。随着制程的不断精进,EUV的使用量预计将持续增长,成为推动半导体行业发展的关键力量。
台积电作为行业领头羊,已积极部署EUV设备,计划到2025年增至超过160台,以应对先进制程对EUV技术的巨大需求。同时,DRAM生产也紧跟步伐,EUV层数的增加预示着存储技术的又一次飞跃。
在此背景下,韩国企业正加速推进EUV相关产业的本土化进程。从光阻剂到空白光罩,韩国企业正逐步摆脱对国外供应商的依赖,实现关键材料的自主供应。这不仅有助于降低生产成本,更增强了韩国在全球半导体产业链中的竞争力。
以东进世美肯为代表的韩国中小企业,已在EUV光阻剂领域取得突破,为三星等大厂提供关键支持。而S&S Tech等企业则在EUV空白光罩领域持续发力,有望打破国际垄断,实现全面量产。
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