光驰半导体原子层镀膜与刻蚀设备项目迎来新进展
来源:ictimes 发布时间:2024-06-19 分享至微信

近日,光驰半导体技术(上海)有限公司宣布,其位于宝山高新区的原子层镀膜与刻蚀设备项目已成功完成竣工验收。


该项目总投资高达5.48亿元,占地50亩,总建筑面积达到6.44万平方米,其中一期已建成约3.8万平方米的现代化厂房和研发办公楼。该项目专注于新型电子元器件及设备制造,旨在通过全球泛半导体产业链的整合与前沿技术研发,实现电子专用设备制造的产业化与规模化。


作为光驰科技(上海)有限公司的全资子公司,光驰半导体技术(上海)有限公司的此次项目竣工,标志着其正步入快速发展的新阶段。自2000年以来,光驰科技凭借其在半导体光学领域的深厚积累和创新实力,已经在市场上建立了极高的知名度和竞争力。为了进一步拓展市场,公司于2022年在北部园区设立了光驰半导体,旨在将传统光学技术与半导体技术相结合,开辟新的光学元器件向半导体集成光学转变的市场。


预计项目全面投产后,将实现年产高精度原子层镀膜机120台和刻蚀机5台的生产能力,为区域产业升级注入新的活力。


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