为了满足半导体行业对高精度生产设备日益增长的需求，ASML携手比利时微电子研究中心（Imec）在荷兰费尔德霍芬启用了全新的High-NA EUV微影设备测试实验室。
这一实验室的启用，标志着High-NA EUV技术商业化进程迈出了重要一步。High-NA EUV微影设备以其高达3.8亿美元的价格成为业界焦点，但其带来的技术革新和性能提升，无疑将推动半导体制造技术的飞跃。
该实验室的设立，为芯片制造商和供应链伙伴提供了宝贵的试用平台，让他们能够亲身体验High-NA EUV技术的强大性能。
目前，ASML已收到多家企业的订单，预计将在2025至2026年间将High-NA EUV设备投入商用产线。作为全球半导体行业的领军企业，英特尔已在其研发晶圆厂中安装了High-NA EUV原型机，并计划在未来制程节点中广泛应用该技术。
然而，尽管High-NA EUV技术具有巨大潜力，但高昂的成本和技术挑战仍是企业需要面对的问题。此次ASML与Imec的合作，不仅加速了技术的研发进程，也为行业的未来发展提供了有力支持。
