在半导体制造领域，一场技术革新的风暴正在酝酿。当地时间6月3日，光刻技术领军者ASML携手比利时半导体研究机构IMEC，共同宣布开设了一个High NA EUV（高数值孔径极紫外光）光刻实验室。这一里程碑式的合作标志着业界在追求更小、更快芯片制造的道路上迈出了坚实的一步，有望推动摩尔定律进入埃米（0.1纳米）时代。
该实验室位于荷兰费尔德霍芬，ASML的总部所在地，将配备最先进的TWINSCAN EXE:5000光刻机，供业界进行试验和优化。英特尔对此表示热烈欢迎，称其为“芯片制造行业的大日子”，并强调将共同加速下一代芯片的诞生。英特尔此前已宣布完成组装世界首台ASML High NA EUV光刻机，价值高达3.8亿美元，计划在其14A制程工艺中使用。
目前，ASML在光刻机设备领域占据主导地位，是唯一能够制造EUV光刻机的厂商。在芯片制造商中，台积电、三星、英特尔以及SK海力士等巨头已拥有ASML的EUV光刻机。全新的High NA EUV光刻机相比前代产品，分辨率提高了60%，预示着新一代更小、更快的芯片即将问世。ASML预计，客户将在2025至2026年间开始使用该设备进行商用制造。
