韩国ENF:自研钛蚀刻剂已向HBM大厂供货
来源:ictimes 发布时间:2024-05-30 分享至微信
韩国半导体产业近期取得了重要进展,不仅在高带宽存储器制造技术方面取得了突破,而且在关键工艺材料的国产化方面也有所进步。
据报道,韩国半导体材料公司ENF Technology成功开发了钛蚀刻剂,并已开始向全球最大的HBM制造商供应。这项钛蚀刻剂技术的成功开发为韩国国内半导体产业带来了新的发展机遇,也标志着韩国在半导体材料领域的技术实力和竞争力得到了提升。
除了ENF Technology之外,其他韩国公司也在积极开发关键HBM材料。Soulbrain提供特殊浆料,用于HBM制程中的铜层去除,而Duksan Hi-Metal则为存储器公司提供焊球,发挥着数据传输中的桥梁作用。这些公司的努力为韩国半导体产业的国产化和技术多元化注入了新的动力。
这些进展不仅对韩国半导体产业具有重要意义,也将推动全球半导体行业的发展。随着韩国在半导体材料领域的技术实力不断增强,其在全球半导体市场上的地位和竞争力也将逐步提升。
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