随着AI、5G、自动驾驶等技术的飞速发展，对高性能、低功耗芯片的需求日益旺盛，推动了半导体先进制程向更低纳米级别迈进。EUV（极紫外光微影）技术作为实现这一目标的关键，其市场规模预计将持续增长。
EUV光刻技术能够在晶圆上制作更小、更精细的电路图案，满足先进制程的需求。尽管当前EUV设备造价昂贵、制程复杂，但其对先进制程的重要性不言而喻。Precedence Research预测，全球半导体市场规模将持续扩大，EUV作为其中的重要组成部分，其市场规模也将随之增长。
尽管ASML第一季财报显示订单量下滑，但考虑到台积电等大厂在先进制程上的持续投入，以及对EUV技术的硬需求，预计未来EUV市场规模仍将保持增长态势。特别是随着资本支出的不断增加，以及台积电等厂商对先进制程和光罩的重视，EUV市场有望持续增长。
综上所述，EUV市场规模将持续成长，成为半导体制造领域的重要推动力。
