先进制程竞争开战,光刻机成关键!
来源:ictimes 发布时间:2024-06-06
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荷兰费尔德霍芬,2024年6月3日消息,全球领先的半导体设备制造商ASML宣布,与比利时微电子研究中心(IMEC)合作,在此处开设了联合High-NA EUV光刻实验室,旨在推动先进制程芯片的生产与研发。
High-NA EUV技术是EUV技术的最新进展,通过提高数值孔径(NA)来增强光刻设备的分辨率和聚焦能力,从而支持更小尺寸的电路图案制造。据ASML透露,他们的最新High-NA EUV设备的NA将从0.33提升至0.55,将能够绘制出更为精细的电路结构。
新开设的实验室将提供第一台原型高数值孔径EUV扫描仪(TWINSCAN EXE: 5000),以及周边的处理和计量工具。这一进展被业界视为High-NA EUV技术在大规模生产准备中的重要里程碑,预计将在2025-2026年间迎来大规模应用。
“High-NA EUV是光刻领域的下一个里程碑,有望一次性实现20纳米间距的金属线/空间图案化,并支持下一代DRAM芯片的制造。”IMEC总裁兼首席执行官Luc Van den hove表示。
三星电子则与ASML和ZEISS合作,在韩国设立新的研发中心,专注于开发能够实现亚2nm工艺的High-NA EUV设备。
总体而言,ASML与IMEC的合作开设High NA EUV光刻实验室,标志着半导体制造行业向更先进制程的迈进,将极大地推动摩尔定律在电子工艺领域的应用,加速了先进制程芯片的研发与生产。
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