在全球芯片产业中，光刻胶作为不可或缺的关键材料，扮演着重要角色。光刻胶是当前芯片制造过程中必不可少的材料，尤其在光刻技术中发挥着重要作用。

光刻胶根据不同的光刻机以及其对应的光刻波长，可分为KrF、ArF、EUV等类型。这些不同类型的光刻胶，适用于不同光刻机的需求。

然而，全球光刻胶市场几乎完全被日本企业垄断。据数据显示，目前日本企业占据了全球光刻胶市场约70%到90%的份额，尤其在高端ArF和EUV光刻胶领域，市场占有率超过90%。这使得光刻胶成为了日本在全球半导体制造链中的关键支柱。

日本之所以能够长期垄断光刻胶市场，原因并非仅仅是技术上的领先优势。虽然光刻胶的制造技术确实十分复杂，需要多年的技术积累和持续创新，但更关键的是市场和资本的支持。全球半导体材料和设备市场每年规模超过5000亿美元，而光刻胶市场规模约为20亿美元，利润空间有限。这使得大型企业在投入资源时更倾向于高回报的领域。

总体而言，光刻胶市场的门槛并非不可逾越，如果大型企业愿意投入资金和资源，技术突破是完全可能的。随着技术的发展和政策支持的增加，光刻胶的市场竞争将更加激烈，这也将推动全球半导体制造链的发展。

光刻胶作为半导体制造过程中的关键材料，不仅仅是技术的竞争，更是市场和政策的结果。日本在这一领域的主导地位，既是其长期技术积累的体现，也反映了全球半导体产业链的复杂性和挑战性。随着全球技术和市场的变化，预计未来光刻胶市场的竞争将进一步激烈化，有望促进行业技术创新和全球市场多样化。