近日，积塔半导体在上海临港举办了一场盛大的仪式，标志着其300mm车规半导体集成电路制造基地设备正式入场开工，其中包括了来自荷兰ASML公司的光刻机。
光刻机在半导体制造过程中扮演着核心角色，其精密的制程直接决定了芯片的性能和质量。作为全球光刻机制造领域的佼佼者，ASML凭借其卓越的技术实力和领先的产品性能，一直稳居行业领先地位。
而本次入场的光刻机很可能是干式DUV光刻系统中的I-line或ArF系列，对于积塔半导体的发展将起到重要的推动作用。其中包括ASML最新的i-line系统TWINSCAN XT:400L，以及双级ArF系统TWINSCAN NXT:1470，这些先进设备将有助于提高生产效率和产品质量。
积塔半导体成立于2017年，专注于半导体集成电路芯片特色工艺的研发和生产制造。其产品涵盖了电源管理芯片、控制器、功率器件、碳化硅器件、微机电系统等多个领域，服务于汽车电子、工业控制、电源管理、智能终端等多个高端应用市场。
公司在融资和产能方面也展现出强大的实力，已经完成了多轮融资，累计金额超过280亿元人民币，并且拥有30万片/月的产能，为行业发展提供了坚实基础。
此外，积塔半导体还致力于功率模组及车规级芯片创芯整合发展，在与多家公司达成合作的同时，不断拓展业务领域，为中国半导体产业的崛起做出了积极贡献。
