据外媒报导，美国官员正游说 ASML 禁止向中国出售成熟制程晶片生产所需的深紫外光 (DUV) 微影设备，业界指出，微影设备是中国最难取得替代的设备，供应受阻下，中芯扩产脚步也将因此放缓，新产能要照原订目标开出难度升高，有利台晶圆代工厂，也有助缓解 2023 年后成熟制程恐供过于求的疑虑。

包含联电 (2303-TW)(UMC-US)、力积电 (6770-TW)、世界先进 (5347-TW) 等晶圆代工厂，都可望因此受惠。

外媒指出，知情人士透露，美国商务部副部长 Don Graves  5 月下旬与 6 月初访问荷兰及比利时，讨论供应链问题，会见 ASML 执行长 Peter Wennink，并游说 ASML 禁止向中国出售较旧的极紫外光 (EUV) 微影设备、或深紫外光 (DUV) 设备。

基于与美国政府达成的协议，2019 年以来，荷兰政府已禁止 ASML 向中国制造商出售最先进的 EUV 设备，但仍可向中国客户出货 DUV 设备；若此次荷兰方面同意美国政府游说，销售禁令范围、类别将扩大，对中芯、华虹半导体等中国晶圆代工厂，无疑是一记重击。

中芯目前在北京、上海、深圳三地启动投资建厂计划，要兴建多座 28 奈米厂及更成熟制程的 12 吋晶圆厂，其中上海临港新厂今年初已动工，北京、深圳则稳步推进，预计今年底前投产。

若 ASML 不再出货 DUV 设备给中国晶圆代工厂，中芯扩产计划势必延宕，28 奈米及更成熟制程供过于求情况，也有机会稍微缓解。