日本半导体设备厂东京威力科创(TEL)，2021年6月8日宣布，提供下一代极紫外光(EUV)微影设备所需的EUV光阻剂涂布显影装置(Coater/Developer)，给比利时微电子研究中心(imec)与荷兰设备厂ASML的实验室。imec与ASML合作的高数值孔径EUV研究实验室(imec-ASML joint high NA EUV research laboratory)，位于荷兰Veldhoven，正在进行下一代EUV设备的研发。

日经新闻(Nikkei)与日刊工业新闻(Nikkan)报导，东京威力科创的EUV涂布显影装置，是第一次供应imec与ASML的高数值孔径EUV实验室。东京威力科创参与imec与ASML的下一代EUV微影设备实验，是为了让微影设备与涂布显影装置一体化，提高生产力。

东京威力科创将在2022年上半供应EUV涂布显影装置，一体化完成并启用时间，预计将在2023年。

imec的先进显影、制程与材料副总裁Steven Scheer表示，与东京威力科创的合作具有关键作用，有助于识别与消除旋转光阻剂(spin-on resist)于EUV涂布时的重大瑕疵，让EUV能够应用于大规模量产。

根据imec官网，Steven Scheer曾指出，预计2025年左右，会在量产环境下生产出第一台的下一代EUV微影设备，孔径为0.55，比既有0.33孔径的设备，能够提供更好的解析度与更细微的显影。

东京威力科创则表示，在EUV涂布显影装置的市占率目前达到100%。日本研调公司Globalnet调查，东京威力科创的涂布显影装置(包含EUV专用)，全球市占率为90%。

imec除了与ASML合作研发半导体细微化技术之外，还与多家半导体相关厂商合作，例如日本材料厂JSR与imec成立合资子公司，生产EUV光阻剂，还有日厂大日本印刷(DNP)也与imec共同研发下一代半导体光罩。