台积电最棘手的问题不是中芯7nm，而是国内半导体的不断突破

对于台积电而言，现在最棘手的问题应该不是中芯国际的7nm芯片，而是大陆方面半导体产业的全面发力，目前来看已经势不可挡。早在2018年，台积电张忠谋就曾放下过狠话说：在芯片制造方面，研发很难，即便大陆以举国之力也很难成功，而他特指的其实就是光刻机。

不过，很显然的是，张忠谋不愿意看见的事情还是发生了，他低估了国内研发半导体产业链的决心，前段时间，国内上海微电子就传来好消息，14纳米制程工艺芯片已经成功被突破，台积电现在算是追悔莫及。

别看目前主流的芯片制程工艺已经来到了5nm，但实际用处却并不是很大，主要还是应用在智能手机这个领域，而14nm等中低端芯片则是目前市场主流的芯片产品，也占据了芯片市场很大的市场份额，所以国内企业也将慢慢和台积电瓜分这份市场。这种局面也验证了当年比亚迪王传福的霸气回应：“芯片不是神造的，而是人造的”。

除了上海微电子传来的喜讯外，中芯国际那边也没让大伙失望，这不，最近中芯与光刻机巨头ASML达成合作，签署了一份12亿美元的设备采购订单（相当于77亿人民币），总算喘了一口气，虽然对于几台光刻机而言，这个价格确实过高，而且这批光刻机设备中也没有大家期待的EUV光刻机，可是能用钱解决的，我们不能拒绝。

虽然买到的只是ASML的中低端光刻机设备，却对中芯国际目前的产能有很大的帮助，产能提上去了，营收自然也会相应得到提到，这样中芯往后的路也可以好走许多，同时对半导体行业也是利好。

另外，除了12亿美元订单这个好消息外，中芯国际还透露他们将会在今年4月份进行7nm制程工艺芯片流片测试，其实之前中芯国际已经可以通过N+1制程工艺生产出7nm芯片，只不过缺点就是需要多次曝光，成本较高成片率也比较低。

这次的芯片流片测试，应该是已经对工艺技术进行了调整升级，相信会更加成熟，只要中芯国际生产的芯片一旦成功进入流片阶段，那也就意味着以后量产芯片也不在话下了。此时值得注意的是，之前说全大陆造不出顶尖芯片，头也不回的斥资120亿美元赴美建厂的台积电，恐怕现在凉了大半截了。

台积电张忠谋本以为去美建厂，能拿到不少好处，毕竟是人家有求于我，可结果去了才发现老美叫他建

更气的是张忠谋本以为大陆会在芯片先进制程工艺上停滞不前，但没想到结果却恰恰相反，只过了短短几年时间，国内的芯片制程工艺已经从28nm突破到7nm，现在想回来都已经晚了，这份市场份额看来不好抢走了。

最后这说明什么呢？说明我们即便没有最先进的EUV光刻机，也一样可以做出7nm芯片，如果以后再加上ASML的EUV光刻机加持，中芯国际就可以十分有把握与台积电抗衡下去。

迈出了这一小步，后面就是一大步。不知道在座的各位怎么看目前国内芯片制造的水平呢，欢迎大家在下方评论区说说自己的想法，感谢！