三星和SK海力士韩国新芯片厂选址最快7月揭晓

据韩媒Newsis报道，三星电子与SK海力士在韩国全罗道地区（即韩国湖南地区）新建大型半导体生产基地的最终选址，最快有望于今年7月确定。此前，这两家存储芯片巨头宣布将在该区域合计投入800万亿韩元（约人民币35512.00亿元），折合5200亿美元（约人民币35369.10亿元），用于建设新的芯片制造工厂。自6月底投资计划在青瓦台正式公布以来，新厂的具体落户地点便成为业界关注的焦点。

根据规划，三星电子和SK海力士将各自出资400万亿韩元（约人民币17756.00亿元），分别建设两座存储器晶圆厂。目前，两家企业正在对光州及全罗南道的多个备选地块进行详细考察。其中，光州尖端3区与光州军机场迁建用地因综合条件较好，成为呼声最高的两个热门选项，并已进入优先评估阶段。

光州尖端3区地处光州北区、光山区及全罗南道长城郡交界处，属于占地362万平方米的综合性产业园。该区域紧邻光州市区，交通物流网络发达，且周边配有大型变电设施，电力供应条件优越，未来还计划引入人工智能研发基础设施。然而，该地块的面积对于超大型芯片厂而言略显局促，且工业用水的获取存在一定限制，这对于需要大量超纯水和稳定水源的存储器制造来说，是需要解决的难题。

相比之下，位于光州光山区新村洞的军机场迁建用地面积高达826万平方米，空间更为广阔，水资源获取也更具优势，能够容纳大型晶圆厂及其配套供应链企业共同入驻。不过，该地块的开发进度存在不确定性。由于涉及军民机场的搬迁，相关的行政审批、地方协调及补偿工作可能会拖延项目开工时间。对于芯片制造商而言，无法明确动工日期会降低该地块的吸引力。

除上述两处地点外，三星电子还在考察光州梧云洞新能源汽车产业园和三巨洞光电产业园，以期与现有产业形成协同效应。而SK海力士的选址范围则可能扩大至整个全罗南道，包括长城、海南SolarCity及务安等地，最终选址或许会出乎市场预期。

业内分析指出，半导体工厂的选址不仅考量土地面积，更看重基础设施的完善程度及项目推进效率。存储器晶圆厂对电力、水源、超纯水处理、交通物流及员工生活环境有着极高要求。因此，能够最快完成审批并具备动工条件的地点将最具竞争力。目前，两家企业正加快评估进度，并与韩国中央政府及地方政府紧密沟通，以解决用地补偿和基础设施建设等问题。若选址能在7月顺利敲定，标志着韩国西南部半导体产业集群建设将进入实质性阶段；反之，若协调工作受阻，这一巨额投资计划可能会面临时间延误与执行风险。

注：按1韩元≈0.0044人民币、1美元≈6.80人民币计算。