美国砸2.5亿美元助I-Pulse研发碳化硅

据行业媒体援引美国商务部消息获悉，在《芯片与科学法案》框架内，美方决定向初创公司I-Pulse提供2.5亿美元（约人民币17.01亿元）的研发补助。这笔款项由亿万富翁罗伯特·弗里德兰参与创立的该企业获得，将专门投入到脉冲功率技术以及碳化硅芯片的研发工作中。

此项拨款隶属于该法案的专项研发经费，与常规的晶圆制造产能补贴有所区别，主要定向支持前沿功率半导体技术的攻关。根据相关协议，I-Pulse会把第三代半导体器件同脉冲功率硬件相融合，携手美国国家级实验室推动碳化硅芯片的工程化应用，从而制造出具备高可靠性的固态功率元器件。该项目已落户于新墨西哥州阿尔伯克基的研发实验室，核心目标是研发耐高温的碳化硅半导体器件，进而减少进口依赖并强化美国本土的功率半导体供应链。

作为一家美国私营科技公司，I-Pulse的核心创始人罗伯特·弗里德兰拥有深厚的矿业资本背景。该公司最初专注于高能脉冲工程技术，近年来逐渐将业务拓展至宽禁带半导体器件领域。其研发重点为高压大电流的碳化硅功率开关元件，相关产品已被应用于国防装备、高端工业设备及地热钻探等多个场景。这类元器件不仅具备工业应用价值，还能作为地热电站的核心电力控制单元，确保人工智能数据中心的供电稳定性，同时实现半导体安全与能源产业发展的双重目标。

在资本层面，核心创始人罗伯特·弗里德兰的投资领域涵盖硬科技与矿产资源，其控股的伊凡豪电气已在美股上市。此次获得联邦补贴，标志着其资本团队在美国关键技术自主化进程中的深度参与。目前，I-Pulse仍处于私有化运营状态，股东包括纽蒙特、力拓等矿业巨头，并且正在筹备未来的上市计划。

注：按1美元≈6.80人民币计算