美商务部补贴I-Pulse，加速碳化硅与地热技术研发

据彭博社和路透社等媒体报道，美国商务部近期依据《芯片与科学法案》，向初创企业I-Pulse Inc.提供2.5亿美元（约人民币17.02亿元）的资金支持。该企业由矿业金融家罗伯特·弗里德兰（Robert Friedland）与首席技术官洛朗·弗雷斯克林（Laurent Frescaline）共同创立。目前，双方已完成相关协议的签署。

据悉，后续研发工作将由位于新墨西哥州阿尔伯克基的团队负责牵头。同时，I-Pulse还将联合桑迪亚国家实验室、美国空军研究实验室以及多所高校和专业制造商，共同推进高功率脉冲系统与碳化硅（SiC）元器件技术的商业化进程。这笔资金将主要用于开发高效能碳化硅半导体及脉冲电力技术。

在技术原理方面，I-Pulse的核心技术是通过高压脉冲电流在高温花岗岩及地热岩层中制造裂隙。这种方式能够提前破碎岩石，从而显著提高钻探效率，延长钻头使用寿命，并有效降低钻井成本。据企业介绍，新一代碳化硅半导体作为高功率脉冲系统的核心元器件，其应用范围不仅包括地热资源开发，还广泛覆盖地下采矿、岩石破碎工程、先进制造和国防装备等多个领域。

谈及行业背景，弗里德兰表示，人工智能的快速发展使得清洁能源成为关键的基础设施瓶颈。相比于风能和太阳能，地热发电能够提供全天候的稳定电力，更有潜力满足人工智能数据中心日益增长的庞大用电需求。他认为，此次获得的资金补助将有助于加快地热技术的成熟，并进一步增强美国的能源自主能力。目前，美国相关部门也正逐步将人工智能、能源与关键矿物政策进行整合，以支持相关基础设施的建设。

注：按1美元≈6.81人民币计算