拓荆科技拟收购尚积半导体控股权，补齐设备短板

据上交所公告披露，拓荆科技于6月26日晚间宣布，正计划通过发行股份与支付现金结合的方式，获取无锡尚积半导体科技股份有限公司的控制权，并打算同步开展配套资金的募集工作。

作为标的企业，无锡尚积半导体专注于半导体装备的研发，其核心业务涵盖等离子刻蚀、物理气相沉积以及化学气相沉积等设备。这些产品已成功应用于先进封装、MEMS、射频芯片、碳化硅器件及功率半导体等生产线，并实现了多种特种薄膜工艺的国产规模化生产。目前，交易双方已经签订了股权收购的意向性协议，最终的成交价格将依据第三方机构的资产评估结果来协商敲定。

拓荆科技作为国内前道薄膜沉积设备领域的领军企业，其主要产品包括ALD和PECVD等化学气相沉积设备，广泛应用于存储芯片、逻辑芯片及先进封装等领域。此次产业并购旨在进一步完善其在刻蚀与薄膜设备方面的产业布局，弥补现有产品线的不足。

公告披露，该笔交易目前仍处于前期筹划环节，相关的审计及评估程序尚未结束。关于股份发行规模、具体交易对价等关键方案仍在进一步沟通中，整体交易面临一定的不确定性。不过，经过初步核算，此项收购既不属于关联交易，也未达到重大资产重组的标准。