韩国ENF自产半导体级氢氟酸，已供货SK海力士

韩国化工企业ENF Technology已实现半导体核心材料氢氟酸（HF）的自主生产，并启动向SK海力士的供货流程。据韩国媒体Theelec援引业内人士消息，该企业于2026年6月上旬顺利通过产品验证，首批半导体级氢氟酸已交付SK海力士，当前正处于产线稳定性测试阶段。预计在经过一至两周的试运转后，到2026年6月末，其供应范围将拓展至DRAM等核心产线，并在SK海力士的供应链中占据关键份额。

氢氟酸由氟化氢与超纯水混合而成，在半导体刻蚀和清洗工艺中发挥着去除晶圆表面氧化层及金属杂质的重要作用。自2019年日本出台出口限制措施以来，该材料已成为韩国亟需实现国产化的核心物资。据统计，韩国半导体行业每年的氢氟酸消耗量约为6万吨，而缓冲氧化物刻蚀液的年需求量则在9万至10万吨之间。

为提升缓冲氧化物刻蚀液的盈利水平，ENF Technology启动了氢氟酸的自研计划。此前，该公司生产由氢氟酸、氟化铵及添加剂调配而成的刻蚀液时，高度依赖日本进口的氢氟酸。自2020年起，ENF Technology在忠清南道天安市工厂累计投入超1000亿韩元（约合4.47亿元人民币或6770万美元（约合4.58亿元人民币））构建氢氟酸生产体系。其首期投资额由原计划的348亿韩元（约合1.56亿元人民币）增加至536亿韩元（约合2.40亿元人民币），用于厂房和储罐等基建；2022年又追加509亿韩元（约合2.28亿元人民币）用于扩充量产设备，且后续每年均有持续投入。

目前，天安工厂已配备氢氟酸生产线以及制造刻蚀液所需的氨系设备和仓储设施，升级为兼具两者生产能力的综合性基地。除了SK海力士，ENF Technology正与全球多家知名半导体企业开展质量认证，计划在2026年下半年实现首批交货。这一国产化进程将对韩国本土氢氟酸市场的供应结构产生直接影响。

注：按1韩元≈0.00447人民币、1美元≈6.7697人民币计算。