PI推800V数据中心辅助电源，氮化镓降本增效

近日，Power Integrations（简称PI）正式发布了两款面向800V直流AI数据中心应用的超薄紧凑型辅助电源参考设计。据悉，这两款5W与15W的反激式辅助电源方案均搭载了具备1700V耐压能力的InnoMux-2集成电路，能够轻松支持1000V直流的额定输入电压，并在非连续导通模式下保持90%的高转换效率，从而最大化电力输出性能。

据PI资深培训经理阎金光介绍，该超紧凑解决方案专门针对英伟达Kyber液冷刀片式机柜架构而开发。与传统的碳化硅方案相比，采用高集成度设计的氮化镓技术能够缩减30%的印刷电路板占用面积，同时减少30%的元器件使用量，进而大幅度削减制造成本及散热需求。他强调，PI是当前业内唯一能够提供单管1700V氮化镓器件的厂商，可利用更少的物料清单设计出同级最优的高效反激式电源。

在技术细节方面，该1700V氮化镓器件选用了蓝宝石作为衬底材料。阎金光解释道，由于蓝宝石衬底不存在传统硅衬底的耐压瓶颈，这使得氮化镓芯片可以承受极高的工作电压，并在800V供电系统中保留充足的安全裕量。同时，高集成度也是保障高效运行的关键，PI将功率开关、控制器以及驱动器全部集成于单颗芯片内部。随着图形处理器算力和功耗的激增，单台服务器计算单元的功率需求显著上升，而800V高压直流架构能够有效减少多级转换所造成的电能损耗。

关于具体应用场景，辅助电源主要负责为微控制器、栅极驱动器及运算放大器等内部核心器件供电，承担着关键的控制与系统管理任务，以保障整体系统的可靠性、效率及安全性。阎金光指出，在服务器液冷系统中，冷却管道主要服务于中央处理器和图形处理器，留给电源组件的空间十分有限，且通常仅依靠印制电路板进行散热。因此，超薄化设计能够使辅助电源的性能发挥到最佳状态。

针对未来产品规划，阎金光透露，公司现阶段主要聚焦于15W辅助电源领域。在高压直流趋势下，大功率主电源多采用碳化硅与LLC谐振电路设计，其工作频率变化范围较宽，在高压高频环境下的开关损耗极为严重。未来伴随氮化镓技术的不断成熟，PI计划逐步向主电源市场拓展。

此外，针对近期因地缘政治因素引发的氮化镓价格波动，阎金光分析称，综合考量晶体生长、晶圆切割等制造工艺，碳化硅的生产成本实际上高于氮化镓。从长远发展来看，氮化镓在高压应用领域将逐渐替代碳化硅。由于PI在氮化镓技术、制造工艺及控制器方面均掌握自主知识产权，因此在系统成本优化及市场竞争力方面具备显著优势。