据南华早报报道,光阻剂作为半导体微影制程的关键原料,其技术发展备受关注。光阻剂供应大厂徐州博康化学董事长傅志伟在两会期间表示,未来5年将是中国光阻剂技术加速突破与大规模部署的关键期。目前,中国在功率芯片和LED领域使用的G线及I线光阻剂已实现超过20%的自给率,但在高端市场仍面临挑战。
高端光阻剂市场主要由日本和美国企业主导,包括JSR、东京应化工业(TOK)、信越化学工业(Shin-Etsu Chemical)等,这些外资企业占据中国高端市场近95%的份额。其中,KrF与ArF光阻剂的自给率分别仅为3%和不到1%。傅志伟透露,博康已实现从单体、树脂到最终产品的完整产业链自主化,并在KrF和ArF光阻剂领域取得突破,相关产品已通过领先晶圆代工厂验证并进入量产阶段。
此外,专注生产ArF光阻剂的南大光电在2026年2月宣布年产能达50公吨,可满足初期订单需求。上海新阳半导体材料、彤程新材和晶瑞电子材料等企业也在逐步向高端市场迈进。