中国从日本进口的光刻胶，占比超过50%

近日，海关公布了感光化学品（主要指光刻胶）的相关进口数据。

数据显示，2023年1-6月份，我们从日本进口的感光化学品金额为5.47亿美元，同比下降9.1%，占所有感光化学品比例约为51%。

而在2022年的时候，我国感光化学品进口总额23.50亿美元，从日本进口额12.05亿美元，占比51.3%。

也就是说，最近一年多以来，中国的光刻胶进口中，有一半多来自于日本，中国高度依赖日本的光刻胶。

事实上，不只是这一年多以来，统计最近10年以来，日本光刻胶进口占比，一直就超过50%，日本一直是我国感光化学品进口的第一大来源国。

不仅中国高度依赖日本的光刻胶，可以说全球都依赖日本的光刻胶，包括美国、韩国、欧洲等。

光刻胶是芯片光刻工艺中最主要的、最关键的材料。

按照种类可以分为G线光刻胶（436nm）、I线光刻胶（365nm）、KrF光刻胶（248nm）、ArF光刻胶（193nm）、EUV光刻胶（13.5nm）这么几种。

而这几种光刻胶对应的芯片工艺是>0.35um、>0.35um、0.15-0.25um、7-130nm、<7nm。

很明显，光刻胶与光刻机一样，是一一对应的，其中像ArF光刻胶，也分为两种，干法主要用于130-65nm工艺，浸没式主要用于65-7nm工艺。

而目前全球光刻胶市场主要被日本和美国公司垄断，日企全球市占率约80%，处于绝对领先地位。

而从具体的光刻胶类型来看，在g线/i线、KrF、ArF、EUV光刻胶市场中，日本企业的市占率分别为61%、80%、93%，100%。

而中国这4种光刻胶的自给率约为30%、5%、1%、0%，可见基本上都要进口，只有最为落后的g线/i线才表现不错，而越先进的光刻胶，自给率就越低，EUV这种直接无法制造。

对此，不知道大家怎么看？在芯片制造的过程中，光刻机这样的设备不可缺少，而光刻胶这种材料，也是不可缺少。

所以，我们在关注光刻机等各种半导体设备时，也同样应该多关注光刻胶这种材料，只有设备、材料全突破了，才能真正不被卡脖子。

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