KrF光刻胶，又一公司取得突破性进展！

近日，八亿时空宣布在KrF光刻胶方面取得了重大突破，已成功实现KrF光刻胶用PHS树脂及其衍生物百公斤级别的中试量产，并取得了国内部分光刻胶生产企业窄分布树脂订单，材料性能指标达到国际先进水平，成为国内少数能够大批量制造和供应这种关键材料的企业之一。

（源自八亿时空投资者关系活动记录表）

KRS光刻胶

半导体光刻胶可以根据曝光光源波长的不同进行分类：

1． G线光刻胶：适用于波长为436nm的G线光源。它主要用于半导体工艺中500nm以上尺寸的光刻。在一些早期的制程中，如6寸晶圆片，仍然广泛使用。

2． I线光刻胶：适用于波长为365nm的I线光源。它主要用于制程在350－500nm之间的半导体工艺。由于可以应用于6寸和8寸晶圆片，I线光刻胶目前仍然有一定的市场需求。

3． KrF光刻胶：适用于波长为248nm的KrF光源。KrF光刻胶属于深紫外光刻胶，适用于制程工艺在350mm以下的半导体应用。在现阶段，KrF光刻胶主要用于8寸晶圆片的制程。

4． ArF光刻胶：适用于波长为193nm的ArF光源。ArF光刻胶同样属于深紫外光刻胶，被广泛应用于45nm到10nm之间的半导体工艺。目前，ArF光刻胶是市场需求的主流，使用范围广泛。

5． EUV光刻胶：适用于极紫外光刻（EUV），使用波长为13．5nm的紫外光。EUV光刻胶可以应用于10nm以下的先进制程。目前只有ASML能制造出使用EUV光刻胶的EUV光刻机。

这些光刻胶的名称是根据其波长和光刻技术来命名的，每种光刻胶都具有特定的适用范围和性能，可满足不同制程工艺的需求。其中KrF光刻胶在光刻制程中起到传感光线、刻画图形的关键作用。由于其稳定性和性能优势，KRS光刻胶在集成电路制造中具有广泛的应用前景。

在光刻胶领域，中国仍与世界存在较大差距

全球半导体光刻胶供应市场高度集中，核心技术掌握在日、美等国际大公司手中，日本的JSR、东京应化、信越化学及富士胶片四家企业占据了全球 70％以上的市场份额，处于市场垄断地位。在全球半导体光刻胶市场上，日本企业处于绝对垄断地位。

1． 东京应化（TOK）：东京应化成立于1940年，在1968年、1972年先后开发出半导体用正型胶和负型胶后，成为了全球光刻胶领域的龙头供应商，其产品线齐全，包括g线光刻胶、i线光刻胶、KrF光刻胶、ArF光刻胶、ArF沉浸式、EUV光刻胶以及电子光束光刻胶。

2． JSR：JSR成立于1957年，于1979年进入光刻胶领域，如今是全球光刻胶领域的巨头之一，其产品覆盖从g线到EUV光刻胶。

3． 信越化学：信越化学是日本最大的化工企业之一，成立于1926年，是最早向海外扩张的日本化工企业，如今在光刻胶领域全球排名第二。信越化学制造了多种光刻胶产品，包括i线、KrF、ArF和EUV光刻胶。

4． 富士胶片：富士胶片成立于1934年，在光刻胶领域有一系列产品，涵盖了负胶、i线、KrF、ArF和电子束胶。2019年，富士胶片便已启动EUV光刻胶业务。

5． 罗门哈斯：罗门哈斯成立于1909年，是美国最大的精细化工公司，其丙烯酸系列产品出货量全球第一。2009年4月1日，陶氏化学公司完成对罗门哈斯公司的收购，同年的06月03日，陶氏化学宣布成立涂料材料业务部，成为一家全球领先的特殊化学品和高新材料企业。

光刻胶只是陶氏的一种产品。客户是Intel、IBM体系，在美国和新加坡、中国台湾的占有率高，但在大陆市场占有率不是很高。在低端的6寸市场的份额较大。值得一提的是，今年7月陶氏化工厂的爆炸还引发了一阵供应恐慌。

目前国内厂家多以I 线、G线光刻胶生产为主，应用集成电路制程为350nm以上。高端光刻胶产品领域，除北京科华、博康等企业已量产KrF光刻胶外，大部分企业目前还未能大批量量产，而涉足ArF光刻胶的企业目前均尚处研发阶段。

国内高端光刻胶市场的自给率仍然保持较低水平，且国内市场份额在KrF和ArF领域较小。由于光刻胶的保质期较短（通常只有6－9个月），一旦遇到贸易冲突或自然灾害，我国集成电路产业甚至会面临全面停产的严重不利局面。

八亿时空量产KrF光刻胶的意义

早在今年6月，八亿时空近期在接受调研时便表示，公司研发团队已成功实现KrF光刻胶用PHS树脂50公斤级别的量产，最近又取得了国内某核心光刻胶生产企业100kg级别窄分布（PDI＜1．2）树脂订单，材料性能指标达到国际先进水平，能满足国内光刻胶客户的需求，部分解决了国内光刻胶核心材料的卡脖子问题，打破了国际垄断。

八亿时空通过长期的研发和技术积累，具备了国内领先的合成能力、纯化技术以及微量杂质分析与纯化处理能力，如今终于实现了百公斤级别的中试量产，并取得了国内部分光刻胶生产企业的订单。

此次实现100公斤级别的量产对中国光刻胶产业具有重要意义。它不仅解决了国内光刻胶核心材料的瓶颈问题，而且有望加速国产化替代进程，减少对进口产品的依赖，并为中国集成电路产业的发展做出了积极贡献。

通过不断加大研发投入和技术创新，和八亿时空一样在光刻胶领域的半导体公司，将继续强化在KRS光刻胶领域的竞争力，推动国内光刻胶产业的发展，并为中国集成电路产业的自主可控做出更大贡献。